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集成良率工艺的 DFM流程
- PredictionsSoftware公司宣布DFM一体化支持(DUF)工艺即校准良品率模型将被TSMC(台湾半导体制造公司)导入。在设计环境之内,以区域高效率的方式,在流片(Tape-out)之前，.... EDN China
- http://article.ednchina.com/2006-07/200676083529.htm 2006-07-06
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针对45纳米及以下工艺问题的 DFM工具
- Synopsys推出了具备工艺识别功能的可制造性设计(DFM)新系列产品PA－DFM，用于分析45纳米及以下工艺定制/模拟设计阶段的工艺变异的影响。SynopsysPA-DFM系列的核心产品Seism.... EDN China
- http://article.ednchina.com/EDA/20070308100907.htm 2007-03-08
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标准欠缺 DFM问题困扰PCB设计和制造厂商
- 设计水平的提高、制造能力的提升，使可制造性设计（DesignforManufacturing，DFM）成为了时下最令IC设计厂商和Foundry厂商头痛的问题。与此同时，同样的问题也同样困扰着PCB设.... 唐海燕，EDN China技术编辑
- http://article.ednchina.com/EDA/20061004031956.htm 2006-10-04
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对 DFM选手过筛
- 每月都会冒出新的DFM工具公司，很难为65nm工艺做出选择。但在65nm工艺节点方面的三家顶级代工厂已经代你做了一些选择工作。要点晶圆厂现在为DFM（面向制造的设计）工具厂商提供不同等级的工艺数据和光.... Michael Santarini，EDN高级编辑
- http://article.ednchina.com/EDA/20061101072738.htm 2006-11-01
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台联电与Magma联手推出65纳米实体验证与 DFM方案
- 台联电(UMC)与IC设计解决方案供货商微捷码科技有限公司(MagmaDesignAutomation,Inc.)共同宣布，针对65纳米设计推出实体验证与可制造性导向设计解决方案。双方在台联电先进制程.... EDN China
- http://article.ednchina.com/Consumer/20070927090613.htm 2007-09-27
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台积电向设计公司开放 DFM支持环境
- 台积电近日表示，公司领先推出的“芯片可制造性设计（DesignforManufacturing；DFM）”服务内容，在获得客户的大力支持下，公司决定芯片设计人员可藉由通过台积电所验证过的设计自动化工具....
- http://article.ednchina.com/2006-05/2006522062855.htm 2006-05-22
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低功耗、 DFM及高速接口是65/40纳米设计重点
- 近两年，国际上大的半导体公司都推出了65纳米产品，并开始了45纳米/40纳米产品的研发，而国内也已经有五六家企业开始了65纳米的设计。但总体来说，65纳米/40纳米设计目前仍然还是一个新生事物，企业要....
- http://article.ednchina.com/Other/20081029085407.htm 2008-10-29
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为65nm设计提供 DFM功能特性平台
- Cadence推出了CadenceEncounter数字IC设计平台的最新软件版本，增加了许多功能特性，包括全芯片优化、面向65nm及以下工艺的超大规模混合信号设计支持，具有对角布线能力的Encoun.... EDN China
- http://article.ednchina.com/EDA/20070603010340.htm 2007-06-03
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Synopsys：以 DFM技术把握需求趋势
- 随着IC设计进入纳米时代，IC设计必需与制程技术紧密结合。未来5年，中国会是IC需求增长最大的市场，而产品的成本、上市时间及软件开发能力、软硬协同设计等都是在消费电子驱动背景下，设计从满足特色需求开始.... 姚钢，EDN China资深记者
- http://article.ednchina.com/EDA/20070127053215.htm 2007-01-27
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