ASML最新一代EUV光刻机3600D：生产效率增加18%

当地时间10月14日，荷兰ASML（阿斯麦）公布了光刻机产品的最新进展：最新一代EUV光刻机3600D，30mJ/cm2的曝光速度达到每小时曝光160片晶圆，生产率提高了18%，并改进机器匹配套准精度至1.1nm。RW2ednc

ASML昨日公布最新一代EUV光刻机3600D：生产效率增加18%

当地时间10月14日，荷兰ASML（阿斯麦）公布了光刻机产品的最新进展：3600D是其目前研发中的最先进光刻机系统，于2021年中旬出货交付，其30mJ/cm2的曝光速度达到每小时曝光160片晶圆，提高了18%的生产率，并改进机器匹配套准精度至1.1nm。RW2ednc

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TWINSCAN NXE:3600D作为其目前研发中的最先进光刻机系统，终于敲定最终规格。RW2ednc

具体来说，30mJ/cm2的曝光速度达到每小时曝光160片晶圆，提高了18%的生产率，并改进机器匹配套准精度至1.1nm。RW2ednc

3600D定于2021年中旬出货交付，客户还需要一定时间等待，价格应该不会低于现款老型号的1.2亿美元。RW2ednc

目前，ASML已经投产的最先进光刻机是3400C，但主力出货型号是3400B。参数方面，3400B的套刻精度为2nm、曝光速度20mJ/cm2，每小时可曝光125片晶圆。RW2ednc

另外，ASML透露，3400B在三季度也完成了软件升级。全新的DUV光刻机TWINSCAN NXT:2050i已经在三季度结束验证，四季度早期开始正式出货。RW2ednc

据悉，在截止9月30日的单季度，ASML共获得60台光刻机收入，出货了10台EUV光刻机。RW2ednc

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从荷兰向中国出口无需许可证？

在财报会议采访中，ASML CFO Roger Dassen也谈到了与中芯国际等中国客户的业务情况。但被部分媒体错误解读为“向中国出口光刻机是不需要许可证的“。RW2ednc

EDN在官方资料中找出Roger Dassen视频采访的文字整理，英文原文是：RW2ednc

We are aware of the US authorities’regulations and also interpretation of regulations obviously, so we are aware of that as it relates to specific Chinese customers. If we translate that to what it means for ASML in general-for specific Chinese customers-it means that we will be able to ship DUV lithography systems from the Netherlands to such Chinese customers without an export license. But as it relates to parts or systems that are being shipped directly from the US to such customers we would need to obtain an export license for that. RW2ednc

翻译过来的意思是：RW2ednc

我们清楚了解美国当局的规章制度，因此我们知道这与特定的中国客户有关。 如果说这对于ASML而言意味着什么，那就是我们将能够在没有出口许可证的情况下将荷兰的DUV光刻系统运往此类中国客户。 但是，由于它涉及直接从美国运往此类客户的零件或系统，因此我们需要为此获得出口许可证。RW2ednc