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SK海力士或首次使用EUV光刻机生产第四代10nm DRAM存储芯片

2021-02-02 综合报道 阅读:
由于受到制裁,EUV光刻机最近在中国受到极大的关注。前段时间,EDN的《二手光刻机,曲线救“芯”,1000万美金实现12寸国产芯片生产》报道了中国企业从韩国代理商购买了二手ASML浸没式光刻机。今天SK海力士宣布将在韩国新工厂首次使用EUV光刻机生产第四代10nm DRAM存储芯片。

由于受到制裁,EUV光刻机最近在中国受到极大的关注。前段时间,EDN的《二手光刻机,曲线救“芯”,1000万美金实现12寸国产芯片生产》报道了中国企业从韩国代理商购买了二手ASML浸没式光刻机。今天SK海力士宣布将在韩国新工厂首次使用EUV光刻机生产第四代10nm DRAM存储芯片。VDJednc

存储芯片厂商SK海力士今天宣布,其公司位于韩国首尔南部利川市的M16新厂已经竣工,SK海力士将首次使用极紫外辐射(EUV)光刻机在生产存储芯片。SK海力士经过两年的时间,花费了3.5万亿韩元(约合31亿美元)建成了这座芯片工厂,工厂长336米,宽163米,高105米,相当于一座37层公寓的高度,是SK海力士目前最大的芯片工厂。VDJednc

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SK集团董事长崔泰源在颁奖典礼上称,建造新工厂的决定在两年前是十分大胆的,因为当时整个半导体存储芯片市场正处于低迷,如今看来这个决定十分明智。VDJednc

SK海力士称已在新厂M16引进了EUV光刻机,从而提高芯片电路的精细程度。VDJednc

目前SK海力士计划从今年6月开始使用EUV光刻机量产第四代10nm(1α)DRAM芯片。VDJednc

据SK海力士CEO李锡熙介绍,M16是比较先进的芯片制造工厂,集中了符合ESG(环境、社会和治理)理念的先进设施,例如专门用于EUV设备的车间和最新的污染减排设施。VDJednc

他还称,M16的竣工也代表着其公司于2015年宣布的“未来愿景”的早期实现。当时,SK海力士宣布将从2014年起在10年内建造三座新工厂,M14和M15分别于2015年和2018年竣工,M16是其“未来愿景”中最后一间工厂。VDJednc

结语:SK海力士正式使用EUV技术,三大存储厂商只剩美光未使用VDJednc

本次SK海力士的工厂竣工将正好赶上服务器扩充,全球芯片短缺这一节点。该公司预计今年DRAM需求将增长约17%至 20%,此外今年服务器产品的需求也可能增长30%以上。SK海力士的工厂竣工赶在了最合适的节点上,这离不开其公司对整体行业的精准判断。VDJednc

同时在SK海力士使用EUV技术后,三大芯片存储厂商就只剩下美光还未引入EUV光刻机。短期内美光采用1α工艺的DRAM成本可能会低于另外两家,但是长期来看可能将缺少三星、SK海力士大规模采用EUV技术生产DRAM的经验,这可能会使其在市场竞争中处于下风。VDJednc

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