英伟达推出计算光刻革命性技术，加速2nm工艺成为现实

在英伟达2023年春季GTC大会上，英伟达CEO黄仁勋向业界推出英伟达秘密研发四年的技术“核弹”——突破性的计算光刻软件库cuLitho，能将计算光刻加速40倍以上。计算光刻是提高光刻分辨率、推动芯片制造达到尖端工艺的关键手段，此软件库的推出可谓是计算光刻领域的一次革命。nPbednc

芯片的制造离不开掩膜板光刻，各类元器件都需要经过这样的光刻步骤，光刻机巨头ASML也是靠着这一技术一直垄断着全球的EUV光刻机。nPbednc

每一项革命性技术的出现，都意味着新时代的到来。关注3月29-30日AspenCore将在上海举办国际集成电路展览会暨研讨会（IIC Shanghai 2023）。同期将举办2023中国IC领袖峰会，国内领先厂商的重磅嘉宾及行业先锋在大会上发表创新演讲。此外，IIC Shanghai 2023将聚焦物联网、汽车电子、智慧工业、IC 设计、EDA/IP、射频与无线技术等领域，以产品和技术展示、权威发布、高端峰会、技术研讨等形式，推动半导体产业链上下游交流与合作，全力打造覆盖电子产业的年度嘉年华！点击这里报名参加。nPbednc

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而计算光刻则是应用逆物理算法来预测掩膜板上的图案，通过模拟光通过光学元件并与光刻胶相互作用时的行为，以便在晶圆上生成最终图案。换言之，计算光刻就是通过软件，对整个光刻过程来做建模和仿真，对工艺流程做优化，比如说形貌优化、掩膜板修正等。ASML曾表示，计算光刻是其“铁三角”业务之一。nPbednc

作为芯片制造过程中最复杂、昂贵、关键的环节之一，光刻成本约占硅片加工成本的1/3以上。“计算光刻是芯片设计和制造领域中最大的计算工作负载，每年消耗数百亿CPU小时。”黄仁勋称，“大型数据中心24x7全天候运行，以便创建用于光刻系统的掩膜板。这些数据中心是芯片制造商每年投资近2000亿美元资本支出的一部分。”nPbednc

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而英伟达的cuLitho，可以让日益复杂的计算光刻工作流程能够在GPU上并行执行，它不仅能使计算速度提升40倍，而且功耗也可以降低9倍之多，每天可以生产3-5倍多的光掩膜。以英伟达H100 GPU为例，它需要89块掩膜板，在CPU上运行时处理单个掩膜板需要两周时间，而在GPU上运行cuLitho就只要8小时。黄仁勋表示，通过这项应用，台积电可以把4万个用来驱动计算光刻的CPU服务器，换成500个DGX H100系统中的4000个Hopper GPU，能耗将从35 MW降至5 MW。nPbednc

从长远来看，cuLitho配合光刻计算EDA工具使用，将可以帮助晶圆厂缩短原型周期时间、提高产量，为2nm及更先进的制程工艺奠定基础，并使得曲线掩模、High NA EUV、亚原子级光刻胶模型等新技术节点所需的新型解决方案和创新技术成为可能。nPbednc

每一项革命性技术的出现，都意味着新时代的到来。关注3月29-30日AspenCore将在上海举办国际集成电路展览会暨研讨会（IIC Shanghai 2023）。同期将举办2023中国IC领袖峰会，国内领先厂商的重磅嘉宾及行业先锋在大会上发表创新演讲。此外，IIC Shanghai 2023将聚焦物联网、汽车电子、智慧工业、IC 设计、EDA/IP、射频与无线技术等领域，以产品和技术展示、权威发布、高端峰会、技术研讨等形式，推动半导体产业链上下游交流与合作，全力打造覆盖电子产业的年度嘉年华！点击这里或者扫码报名参加。nPbednc

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