去年年底关于国产光刻机的报道刷爆了朋友圈，大概内容是中国院一研究组成功研制了基于表面等离子体技术（surface plama）的光刻机，其使用365nm的光源实现了20nm分辨率的光刻技术，突破了光学衍射极限。这篇笔记主要介绍下相关的技术。

基于锗离子注入的硅波导工艺和激光退火工艺，他们实现了可擦除的定向耦合器，进而实现了可编程的硅基集成光路，也就是所谓的光学FPGA。